Ключевые приложения:
Фотолитография маска буферных пружин
(Контроль вибрации нанометра)
Вакуумная роботизированная рука контакт -пружины
(Проект-защищенные от частиц)
Специальные требования:
Несназначная обработка (относительная проницаемость μ ≤ 1,01)
Ультра-чистка упаковка (стандарт чистой комнаты класса 1000)